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半導體純水電阻率


      半導體中的雜質對電阻率的影響非常大。半導體中摻入微量雜質時,雜質原子附近的周期勢場受到干擾并形成附加的束縛狀態, 在禁帶中產加的雜質能級。例如四價元素鍺或硅晶體中摻入五價元素磷、砷、銻等雜質原子時,雜質原子作為晶格的一分子,其五個價電子中有四個與周圍的鍺(或 硅)原子形成共價結合,多余的一個 電子被束縛于雜質原子附近,產生類氫能級。雜質能級位于禁帶上方靠近導帶底附近。雜質能級上的電子很易激發到導帶成為電子載流子。這種能提供電子載流子的 雜質稱為施主,相應能級稱為施主能級。施主能級上的電子躍遷到導帶所需能量比從價帶激發到導帶所需能量小得多

      半導體芯片清洗出水水質完全符合美國ASTM純水水質標準、我國電子工業部電子級水質技術標準 (18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級標準)、我國電子工業部高純水水質試行標準、美國半導體工業用純水指標、日本集成電路水質標準、國內外大規模集成電路水質標準

       新興的光電材料生產、加工、清洗;LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏、高品質燈管顯像管、微電子工業、 FPC/PCB線路板、電路板、大規模、超大規模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高,對水質的要求也越高,這也對 超純水處理工藝及產品的簡易性、自動化程度、生產的連續性、可持續性等提出了更加嚴格的要求。  

半導體用超純水工藝

1、石英砂過濾器—活性炭過濾器—阻垢系統—PH調節系統—精密過濾器→爱游戏平台下载系統→中間水箱→再生混床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水點(≥18MΩ.CM)(傳統工藝)

2、石英砂過濾器—活性炭過濾器—阻垢系統—PH調節系統—精密過濾器→爱游戏平台下载系統→中間水箱→增壓水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.22或0.5μm精密過濾器→用水點(≥18MΩ.CM)(最新工藝)

3、石英砂過濾器—活性炭過濾器—軟水器—精密過濾器→一級爱游戏平台下载→加藥機(PH調節)→中間水箱→二級爱游戏平台下载(正電荷反滲膜)→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.22μm精密過濾器→用水點(≥17MΩ.CM)(最新工藝)

4、石英砂過濾器—活性炭過濾器—阻垢系統—PH調節系統—精密過濾器→爱游戏平台下载系統→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0.22μm精密過濾器→用水點(≥15MΩ.CM)(最新工藝)

5、石英砂過濾器—活性炭過濾器—阻垢系統—PH調節系統—精密過濾器→爱游戏平台下载系統→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線殺菌器→精密過濾器→用水對象 (≥15MΩ.CM)(傳統工藝)


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