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多晶硅片清洗對純水水質的要求


     硅是地球上儲藏最豐富的材料之一,從19世紀科學家們發現了晶體硅的半導體特性后,它幾乎改變了一切,甚至人類的思維。直到上世紀60年代開始,硅材料就取代了原有鍺材料。

    硅材料――因其具有耐高溫和抗輻射性能較好,特別適宜制作大功率器件的特性而成為應用最多的一種半導體材料,目前的集成電路半導體器件大多數是用硅材料制造的。現在,我們的生活中處處可見的身影和作用,晶體硅太陽能電池是近15年來形成產業化最快的。

      熔融的單質硅在凝固時硅原子以金剛石晶格排列成許多晶核,如果這些晶核長成晶面取向相同的晶粒,則這些晶粒平行結合起來便結晶成單晶硅。單晶硅的制法通常是制得多晶硅或無定形硅,然后用直拉法或懸浮區熔法從熔體中生長出棒狀單晶硅。單晶硅棒是生產單晶硅片的原材料,隨著國內和國際市場對單晶硅片需求量的快 速增加,單晶硅棒的市場需求也呈快速增長的趨勢。

      單晶硅圓片按其直徑分為6英寸、8英寸、12英寸(300毫米)及18英寸(450毫米)等。直徑越大的圓片,所能刻制的集成電路越多,芯片的成本也就越 低。但大尺寸晶片對材料和技術的要求也越高。單晶硅按晶體生長方法的不同,分為直拉法(CZ)、區熔法(FZ)和外延法。直拉法、區熔法生長單晶硅棒材, 外延法生長單晶硅薄膜。直拉法生長的單晶硅主要用于半導體集成電路、二極管、外延片襯底、太陽能電池。

    目前晶體直徑可控制在Φ3~8英寸。區熔法單晶主要 用于高壓大功率可控整流器件領域,廣泛用于大功率輸變電、電力機車、整流、變頻、機電一體化、節能燈、電視機等系列產品。目前晶體直徑可控制在Φ3~6 寸。外延片主要用于集成電路領域。

      由于成本和性能的原因,直拉法(CZ)單晶硅材料應用最廣。在IC工業中所用的材料主要是CZ拋光片和外延片。存儲器電路通常使用CZ拋光片,因成本較低。邏輯電路一般使用價格較高的外延片,因其在IC制造中有更好的適用性并具有消除Latchup的能力。

      單晶硅也稱硅單晶,是電子信息材料中最基礎性材料,屬半導體材料類。單晶硅已滲透到國民經濟和國防科技中各個領域,當今全球超過2000億美元的電子通信半導體市場中95%以上的半導體器件及99%以上的集成電路用硅。

 多晶硅是由許多硅原子及許多小的晶粒組合而成的硅晶體。由于各個晶粒的排列方向彼此不同,其中有大量的缺陷。多晶硅一般呈深銀灰色,不透明,具有金屬光澤, 性脆,常溫下不活潑。多晶硅是用金屬硅(工業硅)經化學反應、提純,再還原得到的高純度材料(也叫還原硅)。目前世界上多晶硅生產的方法主要有改良西門子 法(SiHCl3)、新硅烷法(SiH4)、SiH2Cl2熱分解法、SiCl4法等多晶硅生產工藝。當前全球多晶硅的市場狀況是:從國際上來看,早幾年 多晶硅還處于供過于求的局面,2004年開始,由于太陽能產業的發展,太陽能用多晶硅供不應求,導致全球多晶硅供應緊張。在國內,我國多晶硅生產長期不能 滿足國內市場需要,嚴重依賴于進口。

 太陽能電池,中文名稱:太陽能電池板 英文名稱:solar cell panel 定義:由若干個太陽能電池組件按一定方式組裝在一塊板上的組裝件.太陽能電池板 Solar panel,分類:晶體硅電池板:多晶硅太陽能電池、單晶硅太陽能電池。非晶硅電池板:薄膜太陽能電池、有機太陽能電池。太陽能電池板:太陽能電池板是太 陽能發電系統中的核心部分,也是太陽能發電系統中價值最高的部分。其作用是將太陽能轉化為電能,或送往蓄電池中存儲起來,或推動負載工作。太陽能電池板的 質量和成本將直接決定整個系統的質量和成本。

多晶硅片,半導體器件生產中硅片須經嚴格清洗。微量污染也會導致器件失效。清洗的目的在于清除表面污染雜質,包括有機物和無機物。這些雜質有的以原子狀態或離子狀態, 有的以薄膜形式或顆粒形式存在于硅片表面。有機污染包括光刻膠、有機溶劑殘留物、合成蠟和人接觸器件、工具、器皿帶來的油脂或纖維。無機污染包括重金屬 金、銅、鐵、鉻等,嚴重影響少數載流子壽命和表面電導;堿金屬如鈉 等,引起嚴重漏電;顆粒污染包括硅渣、塵埃、細菌、微生物、有機膠體纖維等,會導致各種缺陷。所以清洗多晶硅、半導體、太陽能光伏電池板必須用超純水,目前制取超純水工藝可分為爱游戏平台下载+,二是爱游戏平台下载+,這是兩種制取超純水設備常用的工藝。 

 多晶硅片,半導體器件,太陽能光伏行業硅片清洗水質要求非常高,電阻率達18兆以上,目前首選工藝是全膜法制取超純水,全膜法超純水設備是指采用盤濾+UF+RO+EDI+SMB組成的工藝設備,即預處理采用盤濾過濾器+工藝,除鹽采用EDI工藝使產水電阻率達到15MΩ.cm 上,終端供水采用變頻供水泵+二級精精混床+終端超濾膜使產水電阻率達到18.2MΩ.cm,經處理后的產水水質達到《電子級水 GB/T11446.1-1997 Ⅰ級》水質標準。

      爱游戏平台下载生產的超純水設備處理:按客戶要求設計   出水指標:≥15-18.2MΩCM

產水用途:電子、單晶硅/多晶硅用工業超純水、純水、單晶硅多晶硅清洗超純水、硅片硅材料清洗超純水

 

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