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純水處理設備在光電光學中的應用


    隨著現代工業的高速發展,光電光學行業對于產品的質量也在不斷提高,就清洗的水來說,為何不直接使用自來水,而還要花高價購買呢,其實由于自來水或其它水源含一些雜質、離子、細菌之類的對光電光學行業非常嚴重的影響。
    清洗是指清除工件表面上液體和固體的污染物,使工件表面達到一定的潔凈程度。清洗過程是清洗介質、污染物、工件表面三者之間相互作用,是一種復雜的物理過 程,清洗不僅與污染的性質、種類、型態以及粘附程度有關。與清洗介質的理化性質、清洗性能、工件的材質、表面狀態有關、還與清洗的條件如溫度、壓力以及附 加的超聲振動、機械振動等因素有關。

    傳統的清洗方式有浸式清洗、噴氣清洗、噴流清洗、刷洗、噴淋清洗、噴霧清洗、減壓清洗及高壓水射流清洗等,而超聲波純水清洗是目前國際社會公認的最先進的清洗方式。清洗需用純水,如水中含有氯離子,電容器就會漏電。在晶體管、集成電路生產中,純水主要用于清洗硅片,另有少量用于藥液配制,硅片氧化的水汽源, 部分設備的冷卻水,配制電鍍液等。集成電路的產品質量及生產成品率關系很大。水中的堿金屬(K、Na等)會使絕緣膜耐壓不良,重金屬(Au、Ag、Cu等)會使PN結耐壓降低,Ⅲ族元素(B、Al、Ga等)會使N型半導體特性惡化,V族元素(P、As、Sb等)會使P型半導體特性惡化,水中細菌高溫碳化后的磷(約占灰分的20-50%)會使P型硅片上的局部區域變化為N型 硅而導致器件性能變壞,水中的顆粒(包括細菌)如吸咐在硅片表面,就會引起電路短路或特性變差。在電子管生產中,電子管陰極涂甫碳酸鹽,如其中混入雜質, 就會影響電子的發射,進而影響電子管的放大性能及壽命,因此其配液要使用純水,在顯象管和陰極射線管生產中,其熒光屏內壁用噴涂法或沉淀法附著一層熒光物 質,是鋅或其他金屬的硫化物組成的熒光粉顆粒并用硅酸鉀粘合而成,其配制需用純水,如純水中含銅在8ppb以上,就會引起發光變色;含鐵在50ppb以上就會使發光變色、變暗、閃光跳躍;含其它有機物膠體、微粒、細菌等,就會降低熒光層強度及其與玻殼的粘附力,并會造成氣泡、條跡、漏光點等廢次品。

   在黑白顯象管熒光屏生產的12個工序中,玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗等5個工序需使用純水,每生產一個晶體管需用純水80kg。液晶顯示器的屏面需有純水清洗和用純水配液,如純水中存在著金屬離子、微生物、微粒等雜質,就會使液晶顯示電路發生故障,影響液晶屏質量,導致廢、次品。

      隨著純水、在光電光學領域中的重要作用日益突出,純水水質已成為影響光電光學器件產品質量、生產成品率及生產成本的重要因素之一,水質要求也越來越高。在生產中,主要用作純水清洗和純水配液,不同的工藝生產中純水的用途及對水質的要求也不同。


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