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集成電路、晶體管生產用純水的作用


       在晶體管、集成電路生產中,主要用于清洗硅片,另有少量用于藥液配制,硅片氧化的水汽源,部分設備的冷卻水,配制電鍍液等。集成電路生產過程中的 80%的工序需要使用高純水清洗硅片,水質的好壞與集成電路的產品質量及生產成品率關系很大。

      水中的堿金屬(K、Na等)會使絕緣膜耐壓不良,重金屬 (Au、Ag、Cu等)會使PN結耐壓降低,Ⅲ族元素(B、Al、Ga等)會使N型半導體特性惡化,Ⅴ族元素(P、As、Sb等)會使P型半導體特性惡化 [2],水中細菌高溫碳化后的磷(約占灰分的20-50%)會使P型硅片上的局部區域變為N型硅而導致器件性能變壞,水中的顆粒(包括細菌)如吸附在硅片 表面,就會引起電路短路或特性變差。


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